一、适用范围

适用于非晶硅薄膜太阳能电池的透明导电膜（SnO2、AZO、ITO）、非晶硅膜系（a-Si、μc-Si）、背电极膜（ZnO、AI）等材质的激光刻线，及其它薄膜太阳能电池的膜层刻膜（钙钛矿薄膜、金属钼Mo薄膜、金属镍Ni薄膜、碲化镉CdTe薄膜）。

二、技术特点

◆可根据不同使用场景及工艺要求配置合适的激光器

◆非接触式气浮工作平台，自动进出料

◆二维分离式直线运动平台，电池板膜面朝上运动

◆CCD自动识别与定位系统，保证刻线（清边）效果

◆独特的抽尘集尘系统，确保工作环境的洁净度